腦膜瘤質子治療

　　質子照射和光子照射的比較：

　　（1）質子照射不僅靶區適形好，而且劑量分佈均勻。尤其對於較大，不規則形狀的靶區，質子照射的優越性就更加突出。

　　（2）質子照射對於正常組織的保護優於光子。如果將靶區精確的置於bragg峰值的位置上，質子束單野的靶區前劑量很低，約為峰值劑量的20%，靶區後劑量等於零。

併發症　　由於質子束在物理學上的特性，使其在臨床的使用上有了更大的優勢。與x（r）射線相比，質子束非靶區組織低劑量的特性隨著靶區體積的增大和形狀的不規則愈加明顯。有相當一部分腦膜瘤發生在顱底，顱底腦膜瘤的診斷和治療都較困難，顱神經均由顱底出顱，手術切除顱底腦膜瘤顱神經損傷的危險高達54%～60%。frederik報道的顱底腦膜瘤質子放射治療後顱神經永久性損傷的發生率為13%。wenkei報道在質子加光子的治療後，5、10年無嚴重併發症存活率的患者為80%。

預後　　質子照射可與手術結合或單獨進行，也可以為單純質子照射或質子加光子混合照射。麻省總醫院（mgh）和哈佛迴旋加速器實驗室（hcl）合作報道了良性腦膜瘤在質子加光子混合照射後的5、10年存活率分別為93%、77%，無複發率為100%、88%。